第二百二十三章:ASML的惊慌(1/5)
1996年8月,荷兰,埃因霍温,ASML总部。一辆不起眼的黑色轿车,驶入ASML总部园区。
车里坐着两位西装革履的中年亚洲男子,他们是某家港城注册、背景模糊的电子工程咨询公司的代表。
前台查验了预约函,礼貌地引导他们前往一间小型会议室。
会议室内,ASML派出了一位负责亚太区技术合作的经理,以及一位专利分析师。气氛客气而疏离。
对于这家名不见经传的咨询公司,ASML并未给予太高规格的重视。
“......我们受一家客户的委托,希望了解贵公司在193nm ArF干式光刻机,后续演进路线上的技术规划,特别是关于在投影物镜与晶圆之间,引入高折射率介质以提升分辨率,这一技术方向的相关专利布局情况。
咨询公司代表操着流利的英语,开门见山,语气专业而克制。
ASML的两位代表对视一眼,眼中闪过一丝不易察觉的疑惑和警觉。
“抱歉,关于具体的技术路线规划,属于公司核心机密,不便对外透露。”技术经理礼貌地回绝道。
“至于您提到的引入高折射率介质......这一方向,据我所知,业界目前尚无成熟的研究成果。
贵方客户是否有特定的技术方案可以提供?我们可以探讨合作的可能性。”
“我们客户在相关领域有一些初步的研究积累,并已提交了部分专利申请。”
咨询公司代表微微一笑,从公文包中取出一份薄薄的,不包含任何具体技术细节的清单。
“在正式探讨合作之前,我们希望先了解一下,贵公司在该领域的专利布局情况,以避免潜在的侵权风险。
这是我们的专利清单摘要,供贵方参考。”
ASML的专利分析师接过清单,目光快速扫过几行标题。
起初,他的表情还算轻松。但当他看到几个关键专利的名称,和优先权日期时,他的脸色,瞬间变得凝重起来。
"Priority date: 1993......1994......1995......”他低声念着,声音带着一丝难以置信,"Immersion lithography apparatus and method......High refractive index fluid delivery system for projection lens......Te
mperature control mechanism for immersion medium......"
这些专利的申请时间,竟然比ASML内部,任何关于浸没式的初步讨论记录,都要早上数年!
而且,专利的权利要求范围,撰写得极其老辣,几乎覆盖了浸没式光刻从原理、结构到工艺控制的每一个关键环节!
“请问,贵方客户......是哪家公司?”ASML技术经理的语气,再也无法保持之前的从容,带上了一丝不易察觉的紧迫。
“抱歉,在双方达成初步合作意向之前,我们客户的名称,需要保密。”咨询公司代表站起身,礼貌地欠了欠身。
“感谢贵方的接待。我们会将今天的交流情况,向客户汇报。期待后续进一步的沟通。”
说完,两位代表便转身离开了会议室,留下ASML的两位代表,面对着那份薄薄的专利清单